Электронно-лучевые пушки можно разделить на типы:

• низковольтные пушки с ускорением электронов до энергии 20–30 кэВ;

• с промежуточным ускоряющим напряжением – 30–100 кэВ;

• высоковольтные пушки с энергией ускорения 100–200 кэВ.

Оборудование для ЭЛС:

• высоковольтный выпрямитель;

• стабилизатор ускоряющего напряжения;

• блок накала катода;

• модулятор;

• источник питания электромагнитных линз;

• электронно-лучевая пушка;

• вакуумная камера с вакуумной системой и люками загрузки;

• механизмы перемещения свариваемых деталей.

Преимущества ЭЛС:

• высокий к.п.д. установок ЭЛС, т. к. до 99 % кинетической энергии электронов, используемой для нагрева свариваемых деталей, переходит в тепловую энергию;

• температура в зоне сварки достигает 5000–6000 °C;

• при сварке электронным лучом теплота выделяется только в зоне сварки;

• за счет более интенсивного выделения теплоты в глубине зоны сварки получается кинжальное проплавление с отношением глубины к ширине до 20:1;

• высокая удельная мощность луча до 5–105 Вт/см² и выше;

• фокусировка луча до диаметра 0,001 см;

• электронный луч используют для сварки, сверления, фрезерования практически любых современных материалов;

• широкий диапазон толщин заготовок (от 0,02 до 100 мм);

• высокая степень автоматизации сварочного процесса.

Недостатки ЭЛС:

• наличие специального оборудования требует подготовки высококвалифицированных кадров;

• наличие рентгеновского излучения при взаимодействии электронного луча со свариваемым материалом требует защиты оператора;

• высокая температура накала катода до 1700–2400 °C снижает срок службы катодов.

Плазменная сварка

Плазма (от греч. plasma, букв. – вылепленное, оформленное) – частично или полностью ионизированный газ, в котором плотности положительных и отрицательных зарядов практически одинаковы.

Термин «плазма» ввели в 1929 г. И. Ленгмюр и Л. Тонкс. Большой вклад в развитие учения о плазме внесли советские ученые – Л. Д. Ландау, А. А. Власов, А. Д. Сахаров, американские ученые И. Е. Тамм, Л. Спитцер.

Современные ученые выделяют плазму как четвертое состояние вещества, наряду с газом, жидкостью и твердыми телами. В состоянии плазмы находится большая часть вещества Вселенной – звезды, звездные атмосферы, межзвездная среда. Около Земли плазма существует в виде солнечного ветра, проявления которого мы наблюдаем в виде полярных сияний.

При сильном нагревании любое вещество испаряется, превращаясь в газ. Если увеличивать температуру и дальше, резко усилится процесс термической ионизации, т. е. молекулы газа начнут распадаться на составляющие их атомы, которые затем превратятся в ионы. Ионизация газа, кроме того, может быть вызвана его взаимодействием с электромагнитным излучением (фотоионизация) или бомбардировкой газа заряженными частицами.

Свободные заряженные частицы, особенно электроны, легко перемещаются под действием электрического поля. Поэтому в состоянии равновесия пространственные заряды входящих в состав плазмы отрицательных электронов и положительных ионов должны компенсировать друг друга так, чтобы полное поле внутри плазмы было равно нулю. Именно отсюда вытекает необходимость практически точного равенства плотностей электронов и ионов в плазме – ее квазинейтральности. Нарушение квазинейтральности плазмы в объеме, ею занимаемом, ведет к немедленному появлению сильных электрических полей пространственных зарядов, тут же восстанавливающих квазинейтральность.

Принято выделять два типа плазмы:

• низкотемпературная плазма с температурой внутри её ниже 105 К;

• высокотемпературная плазма с температурой выше 106–108 К.

На сегодняшний день плазму получают следующими способами:

• электрическим разрядом в газах (дуговой, искровой, тлеющий);

• в процессах горения и взрыва.

Плазма обладает так называемыми коллективными процессами. Ее можно рассматривать как упругую среду, в которой легко возбуждаются и распространяются различные шумы, колебания и волны. Причем плазма обладает наличием собственных колебаний и волн. Таким образом, плазма резко отличается от газов. Например, электропроводность полностью ионизированной плазмы превосходит электропроводность серебра. Поэтому плазму можно рассматривать как идеальный проводник.

Плазменная технология подразумевает различные методы обработки и получения материалов с использованием плазменной струи или плазменной дуги.

Наиболее широкое распространение получили атмосферные (при нормальном давлении) плазменные методы обработки материалов – резание, напыление, наплавка, сварка, выращивание монокристаллов.

В 1980-х годах эффективное развитие получили ионно-плазменные технологии. Процессы обработки материалов с помощью ионно-плазменной технологии реализуются в вакууме с помощью плазменных ускорителей. Благодаря этому удается наносить сверхтвердые, жаростойкие, коррозионно-стойкие покрытия.

Плазму получают в специальных устройствах – плазмотронах. Плазмотрон – устройство для создания плотной (с давлением порядка атмосферного) низкотемпературной плазмы (до 104 К) с помощью электрического разряда в газах, дающее плазменный поток.

Принцип работы плазмотрона заключается в следующем: холодный газ непрерывным потоком продувают через область, где горит стационарный разряд. Газ нагревается, ионизируется, превращается в плазму, которая истекает в виде плазменной струи.

На практике применяют следующие виды плазмотронов, работающих:

• на дуговом разряде;

• пеннинг-разряде;

• ВЧ и СВЧ-разрядах (высоко– и сверхвысокочастотных);

• с ионизацией газа электронным пучком;

• фокусировкой оптического разряда с помощью лазера.

Наибольшее практическое применение получили плазмотроны на дуговом электрическом разряде. Дуговой плазмотрон может работать на постоянном или переменном токе. Мощность дуговых плазмотронов – от 102 до 107 Вт.

Температура на срезе сопла – 3000–20 000 °C. Скорость истечения струи 1–104 м/с, промышленный к.п. д – 50–90 %. Плотность тока в плазмотронах достигает 100 А/мм².

В качестве плазмообразующего газа используют аргон (температура плазмы – 15000–30000 °C), азот (температура плазмы – 10000–15000 °C) или смесь газов